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好消息不止光刻技术,国产刻蚀机迎来新突破,核心技术完全自研

作者:admin 点击次数:120 更新时间:2021-06-17 19:37:17

受中兴、华为事件的刺痛下,更多的研发力量、资金、人才涌入中国芯片行业,国产芯片的前行脚步加快。

日前,我国便在光刻机领域传来喜讯,中科院官网刊文表示,上海光机所在计算光刻技术领域——光学邻近效应修正技术上,取得重要进展。

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好消息不止光刻机,国产刻蚀机也迎来新突破。

6月15日,中微半导体首台8英寸甚高频去耦合反应离子刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利付运客户生产线。该设备由中微半导体自主研发,可以进行8英寸晶圆的加工。

这显示出我国在刻蚀机领域的又一重大进步。

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同光刻机一样,刻蚀机也是芯片加工过程中的关键设备,也是我国最具优势的半导体设备。在诸多半导体设备中,刻蚀机是我国替代占比最高的设备之一。

中微半导体、北方华创、屹唐半导体等都是我国领先的刻蚀机企业;其中,中微半导体表现最为强势。

目前,中微半导体的工艺节点已经达到5nm,其刻蚀设备也成功进入台积电5nm生产线。由此可见,在技术实力上中微半导体已经达到全球领先水准。

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中微半导体在刻蚀机领域的优异成绩,成功打破了泛林半导体、应用材料与日本东京电子这三家企业垄断全球刻蚀机市场的格局,填补了我国在这一领域的空白。

面对快速崛起的中微半导体,美国商务部在2015年解除了对中国等离子体刻蚀设备的出口管制,让美国企业能够冲击中微半导体的行业地位。

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不过,显然中微半导体并没有因此退缩。

从2016年到2019年,中微半导体一直在加大研发投入。2019年,公司研发投入占收入的比重高达28.3%,可以看出公司对研发的重视。

在高研发投入之下,中微半导体取得了诸多优异成绩,公司客户结构不断丰富,进一步抢占着全球刻蚀机市场。

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如今,台积电、中芯国际、海力士、格罗方德等全球芯片领先企业,都已经成为中微半导体刻蚀设备的客户。这无疑是对中微半导体实力的最大肯定。

虽然,当前我国芯片产业还有诸多不足,但是在中科院这样的科研机构、中微半导体等半导体企业的共同努力下,中国芯片产业的国产替代率将进一步上升,最终实现国产芯片自主可控。